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200万高清对焦定制摄像头模组USB免驱工业一体机摄像头f

深圳市一念间数码科技有限公司（www.oneflash.cn）专业从事摄像模组行业，供应200万高清对焦 定制摄像头模组 USB免驱工业一体机摄像头。我们为您分享摄像模组行业的以下信息：

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摘要

人脸识别技术以其独特性、直接性、方便性等特点，在涉及身份特征识别的领域里被广为应用。本文主要介绍人脸识别技术（FRT）的研究内容、研究背景价值及研究现状。通过分析当前人脸识别技术的现状，总结了人脸识别的应用前景，提出了人脸识别技术的未来发展要求。

关键词：人脸识别，研究现状，发展趋势

720PH264高清USB摄像头模组夜视IRCUT带音频UVC车载中控摄像头

深圳一念间摄像模组厂家专业定制WIFI摄像头模组PCB/FPC高清无线可视对讲门铃模组。

定制WIFI摄像头模组PCB/FPC高清无线可视对讲门铃模组

专业生产CMOS摄像头模组的厂家.产品主要应用领域:金融扫描识别系统，智能家居可视门铃，对讲可视电话，猫眼，航拍巡视系列，IP网络监控系列，行车记录仪，高拍仪，DV，手机，开发板，宽动态摄像头，工业用图像识别系统，指纹识别系统等等，所有可应用影像的领域都可用到我司生产的摄像头模块，任您自由发挥想像力.可根据客户的需求生产广角的，小角的，感红外的单通，双通夜视650﹨850﹨940

主要像素值有:

30万像素(640*480)[主要采用的芯片有OV7670﹨OV7725﹨OV7740﹨GC0308﹨GC0307]

100万像素(800*1280)[OV9710﹨OV9712﹨NT99140﹨NT99141]

130万像素(1024*1280)[OV9712﹨OV9655﹨OV9650﹨OV9653﹨OV9660﹨OV9665﹨MI1320﹨MI1330﹨NT9941]

200万像素(1600*1200[OV2640﹨OV2710﹨OV2650﹨OV2655﹨OV2665﹨GC2015﹨MI2020﹨MI2010﹨MI2030]

300万像素(2048*1536)[OV3630，OV3640﹨OV3642﹨OV3647]

500万像素()[OV5640﹨OV5647﹨OV5653﹨OV5642﹨MI5100﹨MI5130]

800万像素()[OV8825﹨MI8100﹨OV8810]等OV，美光高清摄像头模组

900万像素(3264*2448)[OV9810﹨MI9100]

1000万像素(3648*2736)[MT9J011]

1400万像素(4320×3240)[OV14810]等清晰度很不错的芯片

主要合作的方案商有:安霸，联咏，全智，卓然，太欣，SQ，凌阳，安凯，AIT...

欢迎您来电咨询定制。

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CMOS工艺制造过程

⒈。CMOS工艺

CMOS工艺采用轻掺杂的N型衬底制备PMOS器件。为了做出N型器件，必须先在N型衬底上做出P肼，在p肼内制造NMOS器件。

典型的P肼硅栅CMOS工艺从衬底清洗到中间测试，总共50多道工序，需要5次离子注入，连同刻钝化窗口，共10次光刻。下面结合主要工艺流程来介绍P肼硅栅CMOS集成电路中元件的形成过程。

⑴光1——光刻肼区，刻出肼区注入孔。

⑵肼区注入及推进，形成肼区。

⑶去除SiO2，宽动态摄像头公司，长薄氧，闸机宽动态摄像头，长Si3N4

⑷光2——反刻有源区（光刻场区），反刻出P管、N管的源、漏和栅区。

⑸光3——光刻N管场区，刻去N管区上的胶，露出N管场区注入孔。N管场区注入，以提高场开启，减 少闩锁效应及改善肼的接触。

⑹长场氧化层，出去Si3N4，再飘去薄的SiO2，然后长栅氧化层。

⑺光4——光刻P管区。p管区注入，调节PMOS管的开启电压，然后长多晶硅。

⑻光5——反刻多晶硅，形成多晶硅栅及多晶硅电阻。

⑼光6——光刻P+区，刻去P管及其他P+区上的胶。P+区注入，形成PMOS管的源、漏区及P+保护环。

⑽光7——光刻N+区，刻去N+区上的胶。N+区注入，形成NMOS管的源、漏区及N+保护环。

⑾长PSG

⑿光8——光刻引线孔。可在生长磷硅玻璃后先开一次孔，然后再磷硅玻璃回流及结注入推进后再开第二次孔。

⒀光9——反刻铝引线。

⒁ 光10——光刻压焊块。

宽动态摄像头-一念间数码-闸机宽动态摄像头由深圳市一念间数码科技有限公司提供。深圳市一念间数码科技有限公司（www.oneflash.cn）是从事“摄像模组解决方案,摄像头模组,USB摄像头,双目摄像模组”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供优质的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：丁先生。