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石墨烯

化学气相沉积法化学气相沉积法即（CVD）是使用含碳有机气体为原料进气相沉积制得石墨烯薄膜的方法。这是目前生产石墨烯薄膜有效的方法。这种方法制备的石墨烯具有面积大和质量高的特点，CPU石墨烯散热膜，但现阶段成本较高，工艺条件还需进一步完善。由于石墨烯薄膜的厚度很薄，湖南石墨烯，因此大面积的石墨烯薄膜无法单独使用，必须附着在宏观器件中才有使用价值，例如触摸屏、加热器件等。

石墨烯

石墨烯中电子载体和空穴载流子的半整数量子霍尔效应可以通过电场作用改变化学势而被观察到，而科学家在室温条件下就观察到了石墨烯的这种量子霍尔效应。 [8]  石墨烯中的载流子遵循一种特殊的量子隧道效应，在碰到杂质时不会产生背散射，这是石墨烯局域强导电性以及很高的载流子迁移率的原因。石墨烯中的电子和光子均没有静止质量，他们的速度是和动能没有关系的常数。

石墨膜/导热硅胶/石墨烯复合散热片及其制备方法，该复合散热片由石墨膜、导热硅胶以及石墨烯层通过复卷机进行复合成型，具有高导热性和高抗拉强度；该复合散热片在三维方向上均有极高的导热系数，能快速把集中于一点上的热传导到复合片上，石墨烯散热涂料，使电子装置中的热源温度降低，同时具有良好的柔韧性、可加工性、EMI屏蔽和吸收特性；并且制备工艺简易、成本低，适于工业化生产。

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