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东莞市仁睿电子科技有限公司是国内一批电子部件加工供应商。专注PMMA/PC材料注塑、渐变、加硬(硅化)、印刷、光学镀膜等整套工艺十五年。
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光学镀膜材料编辑
常见的光学镀膜材料有以下几种:
1、氟化镁
材料特点:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,不出崩点。
2、二氧化硅
材料特点:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,手机壳光学镀膜哪家好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
3、氧化锆
材料特点 白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点。
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光学镀膜技术:
原子层沉积
与蒸发沉积不同,用于原子层沉积(ALD)的源材料不需要从固体中蒸发出来,而是直接以气体的形式存在。尽管该技术使用的是气体,手机壳光学镀膜加工厂家,真空室中仍然需要很高的温度。
在ALD过程中,气相前驱体通过非重叠式的脉冲进行传递,且脉冲具有自限制性。这种工艺拥有独特的化学性设计,每个脉冲只粘附一层,并且对光学件表面的几何形状没有特殊要求。因此这种工艺使得我们可以高度的对镀层厚度和设计进行控制,但是会降低沉积的速率。